美國明尼蘇達(dá)大學(xué)雙城科學(xué)與工程學(xué)院的研究人員發(fā)明了一種更便宜、更安全、更簡單的技術(shù)，可以將一組“頑固”的金屬（包括鉑、銥、釕和鎢等元素）和金屬氧化物制成薄膜，用于許多電子產(chǎn)品、計算機組件和其他應(yīng)用程序。該研究發(fā)表在美國國家科學(xué)院院刊 (PNAS) 上。

通常，科學(xué)家使用濺射和電子束蒸發(fā)等技術(shù)合成這些金屬薄膜。后者包括在高溫下熔化和蒸發(fā)金屬，并允許在晶片頂部形成薄膜。但這種傳統(tǒng)方法非常昂貴，耗能大，且由于使用的電壓高，也可能不安全。現(xiàn)在，明尼蘇達(dá)大學(xué)的研究人員已經(jīng)開發(fā)出一種方法，可以在更低的溫度下蒸發(fā)這些金屬，溫度低于200℃。通過設(shè)計有機配體（碳、氫和氧原子的組合）并將其添加到金屬中，研究人員能夠顯著提高材料的蒸氣壓，使其更容易在較低溫度下蒸發(fā)。他們的新技術(shù)不僅更簡單，而且還制造了易于擴展的更高質(zhì)量的材料。